| 专利名称 | 全息光栅制作装置、曝光干涉条纹相位稳定装置及方法 | 申请号 | CN201610537325.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN105954977A | 公开（授权）日 | 2016.09.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 宋莹;姜珊;唐玉国;巴音贺希格;潘明忠;李文昊 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I | 专利有效期 | 全息光栅制作装置、曝光干涉条纹相位稳定装置及方法 至全息光栅制作装置、曝光干涉条纹相位稳定装置及方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本申请提供一种全息光栅制作装置、曝光干涉条纹相位稳定装置及方法，其中，全息光栅曝光干涉条纹相位稳定装置包括分束光栅、光阑、第一平面反射镜、第二平面反射镜、第一扩束准直系统、第二扩束准直系统、光栅基底、测量光栅、第一光电探测器和第二光电探测器，以及压电陶瓷和控制器。通过分束光栅分束，形成干涉场，并通过光路调整，曝光光束的衍射光重合形成便于测量的莫尔条纹。在干涉条纹发生相位变化时，莫尔条纹也发生相位变化，通过两个光电探测器测量莫尔条纹的相位变化，间接得到干涉条纹的相位变化。控制器控制压电陶瓷带动分束光栅沿垂直光栅刻线方向运动，补偿曝光干涉条纹的相位变化，通过反馈控制稳定曝光干涉条纹的相位。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障