一种提高银纳米线透明导电膜导电性和透过率的方法

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专利名称 一种提高银纳米线透明导电膜导电性和透过率的方法 申请号 CN201610960164.8 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN106548828A 公开(授权)日 2017.03.29 申请(专利权)人 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 发明(设计)人 宋伟杰;徐峰;许炜;沈文锋 主分类号 H01B13/00(2006.01)I IPC主分类号 H01B13/00(2006.01)I;H01B1/02(2006.01)I 专利有效期 一种提高银纳米线透明导电膜导电性和透过率的方法 至一种提高银纳米线透明导电膜导电性和透过率的方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种提高银纳米线透明导电膜导电性和透过率的方法,通过在室温和常压下,使用特定浓度的季铵盐表面活性剂溶液浸泡银纳米线透明导电膜,去除银纳米线表面包覆的聚乙烯吡咯烷酮PVP,PVP去除后,由于银纳米线的高表面能,银纳米线之间的结点将会接触、自动融合焊接,使银纳米线之间的结电阻得到显著降低,从而在提高银纳米线透明导电膜导电性的同时,提高了其透过率,避免了传统高温高压焊接对银纳米线导电网络和基底的破坏。本发明方法操作简便、成本低廉,适合于大规模工业生产。

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