| 专利名称 | 深紫外谱段离轴四反光学成像系统 | 申请号 | CN201720100968.0 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN206515548U | 公开（授权）日 | 2017.09.22 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 闫亚东;何俊华;许瑞华;李奇 | 主分类号 | G02B17/06(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B17/06(2006.01)I | 专利有效期 | 深紫外谱段离轴四反光学成像系统 至深紫外谱段离轴四反光学成像系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型提供了一种深紫外离轴四反光学成像系统，采用四个离轴设置的离轴反射镜，将成像系统入射光线主光轴经特殊位置和特定型号的光学元件多次反射(即对光束折叠)，输出与成像系统入射光线主光轴平行的出射光线，结构紧凑、能够应用于狭小空间。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障