| 专利名称 | 一种可用于大基片镀膜的浸渍提拉装置 | 申请号 | CN201621405202.5 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN206356201U | 公开（授权）日 | 2017.07.28 | 申请（专利权）人 | 辽宁中迅科技有限公司;辽宁一一三（集团）化工有限责任公司;中国科学院金属研究所 | 发明（设计）人 | 段治邦;程小平;吴杰 | 主分类号 | B05C3/10(2006.01)I | IPC主分类号 | B05C3/10(2006.01)I | 专利有效期 | 一种可用于大基片镀膜的浸渍提拉装置 至一种可用于大基片镀膜的浸渍提拉装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型属于化工制造及表面技术应用领域，尤其涉及一种可用于大基片镀膜的浸渍提拉装置。该装置在框架的中部设置托板，托板将框架分成上下两个腔室，位于托板下的腔室中设置溶液槽，无动力辊轴设置于溶液槽底部；位于托板上的腔室中设置镀膜件、立柱、丝杠、丝杠安装座，立柱的顶部与支架顶部连接，立柱的底部与托板连接；立柱的一侧通过安装丝杠安装座，丝杠安装座上下设置，丝杠穿过丝杠安装座，并与丝杠安装座呈螺纹配合。本实用新型可用于大基片镀膜的浸渍提拉装置的镀膜方法，一次提拉可生产5片800×700毫米基板的均匀光学镀膜，生产的减反增透膜没有彩虹纹，即没有光学不均匀性。 |
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