| 专利名称 | 一种用于晶圆缺陷检测的结构光合成装置 | 申请号 | CN201620906663.4 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN206209205U | 公开（授权）日 | 2017.05.31 | 申请（专利权）人 | 中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心 | 发明（设计）人 | 陈鲁;刘虹遥;张朝前;马砚忠;杨乐;路鑫超 | 主分类号 | G02B27/10(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/10(2006.01)I;G01N21/01(2006.01)I;G01N21/95(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于晶圆缺陷检测的结构光合成装置 至一种用于晶圆缺陷检测的结构光合成装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型属于光学技术领域，公开了一种用于晶圆缺陷检测的结构光合成装置，包括：光源，所述光源用于发出检测光；分束器，所述分束器接收所述检测光，将所述检测光进行分束，形成两路光束；第一反射镜，所述第一反射镜接收所述两路光束，并将所述两路光束以对称方式传输，使所述两路光束从不同方向斜入射至待测晶圆上，形成光斑；其中，所述两路光束与所述待测晶圆垂直法线之间的夹角相同，所述两路光束在所述待测晶圆上形成的所述光斑完全重叠；所述两路光束从所述分束器至所述待测晶圆上经过的光程相同。本实用新型解决的技术问题是提供一种用于晶圆缺陷检测的结构光合成装置，同时实现相干光束合成与斜入射，且结构光周期易调节。 |
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