| 专利名称 | 一种真空下用于纳米颗粒制备的孔径可调的气孔装置 | 申请号 | CN201621085002.6 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN206127397U | 公开（授权）日 | 2017.04.26 | 申请（专利权）人 | 钢铁研究总院;中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 | 发明（设计）人 | 何峻;夏振军;季格致;马锦;朱玉红;欧修龙;赵崇凌;赵栋梁 | 主分类号 | C23C14/24(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/24(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I | 专利有效期 | 一种真空下用于纳米颗粒制备的孔径可调的气孔装置 至一种真空下用于纳米颗粒制备的孔径可调的气孔装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型涉及纳米材料制备领域，尤其是用于纳米颗粒的制备的孔径可调的气孔装置，其包括内真空室(1)、外真空室(9)和真空室前法兰(2)、气孔板(4)和密封机构(5)，真空室前法兰(2)固接在内真空室(1)的出口端，真空室前法兰(2)上开有通道(10)，通道(10)的出端设有气孔板(4)；气孔板(4)上开有多组孔径不同的气孔(8)，气孔板(4)上不同孔径的气孔可调节的与通道(10)匹配，通道(10)与气孔板(4)之间有气体密封的密封机构(5)。本实用新型的气孔装置，在不破坏真空的条件下，可以通过驱动装置驱动气孔板进行旋转以改变气孔孔径，从而生产出尺寸均一可控的纳米颗粒，提高生产效率，节约资源。 |
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