| 专利名称 | 带磁场生成机构的软X射线吸收谱测量装置 | 申请号 | CN201620757123.4 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN206057220U | 公开（授权）日 | 2017.03.29 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 发明（设计）人 | 曹杰峰;王勇;孟祥雨;甄香君;朱方园;邰仁忠 | 主分类号 | G01N23/083(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N23/083(2006.01)I | 专利有效期 | 带磁场生成机构的软X射线吸收谱测量装置 至带磁场生成机构的软X射线吸收谱测量装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型提供一种带磁场生成机构的软X射线吸收谱测量装置，包括：一测量装置本体，所述测量装置本体包括一真空室，所述真空室穿设有一光路通道；以及一磁场生成机构，所述磁场生成机构固定于所述真空室外并提供沿所述光路通道方向的磁场。本实用新型的一种带磁场生成机构的软X射线吸收谱测量装置无需另外添加磁场产生设备即可形成沿光路通道方向的磁场，具有磁场强度大、磁场均匀性好、磁线圈体积不受限制、不遮挡光路、结构简单和成本低的优点。 |
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