| 专利名称 | Focus detection apparatus for projection lithography system | 申请号 | US201213464321 | 专利类型 | US | 公开（公告）号 | US8760626(B2) | 公开（授权）日 | 2014.06.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | Li Jinlong;Hu Song;Zhao Lixin;Xu Feng;Li Lanlan;Sheng Zhuang | 主分类号 | G03B27/52 | IPC主分类号 | G03B27/52;G03B27/70;G03F9/00 | 专利有效期 | Focus detection apparatus for projection lithography system 至Focus detection apparatus for projection lithography system | 法律状态 | 说明书摘要 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障