| 专利名称 | 基于多线阵CCD平行拼接的二维位置光学测量系统 | 申请号 | CN201620232299.8 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN205718836U | 公开（授权）日 | 2016.11.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 刘爱敏;肖茂森;高立民;陆卫国;王海霞;贾乃勋 | 主分类号 | G01B11/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/00(2006.01)I | 专利有效期 | 基于多线阵CCD平行拼接的二维位置光学测量系统 至基于多线阵CCD平行拼接的二维位置光学测量系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型提供了一种基于多线阵CCD平行拼接的二维位置光学测量系统，包括光源合作目标、共用物镜、分光镜组和线阵CCD组；分光镜组包括依次设置在共用物镜输出光路上的多个分光镜；线阵CCD组包括与分光镜一一对应的多个线阵CCD，且每个线阵CCD通过各自光路分别与光源合作目标共轭；每个线阵CCD的光敏面位于直角坐标系的YOZ平面，光敏长度方向与OZ轴平行。测量时，将待测物体与在光源合作目标固连；光源合作目标经共用物镜、分光镜组后成像于线阵CCD组上，由第一线阵CCD、第二线阵CCD，第三线阵CCD，……，第N线阵CCD共同完成光源合作目标的二维位置测量。本实用新型具有成本低、精度高的优点。 |
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