| 专利名称 | 用于极紫外光刻板级电子学系统的真空密封装置 | 申请号 | CN201620189119.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN205608387U | 公开（授权）日 | 2016.09.28 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电研究院 | 发明（设计）人 | 王魁波;张罗莎;吴晓斌;陈进新;罗艳;谢婉露;周翊;王宇 | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 用于极紫外光刻板级电子学系统的真空密封装置 至用于极紫外光刻板级电子学系统的真空密封装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种用于极紫外光刻板级电子学系统的真空密封装置，该真空密封装置包括密封壳体(2)、灌封胶(6)和封口装置(7)，密封壳体(2)具有腔室，该腔室具有侧壁和一个开口端，并用于容纳放气元件(1)；灌封胶(6)填充于所述密封壳体(2)的腔室内并包裹所述放气元件(1)；封口装置(7)用于封闭所述密封壳体(2)的腔室的开口端，并与灌封胶(6)和密封壳体(2)的侧壁紧密接触。本实用新型提出将液态的低熔点合金覆盖在所述灌封胶(6)上面，其冷却凝固后形成密封板(71)作为封口装置(7)。本实用新型可避免非金属密封元件自身放气产生污染性气体，降低真空密封装置的壁厚，减小真空密封装置的放气面积，减小气体残留的可能性。 |
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