| 专利名称 | 大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统 | 申请号 | CN201620030233.0 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN205539710U | 公开（授权）日 | 2016.08.31 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 况耀武;舒嵘;何志平;亓洪兴;侯佳 | 主分类号 | G02B27/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/00(2006.01)I;G02B17/08(2006.01)I | 专利有效期 | 大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统 至大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本专利公开了一种大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统，包括前向像移补偿镜、离轴三反无焦望远镜、第二折转镜、横向像移补偿镜、第三折转镜、分色片、通道一成像镜组、通道一像面、通道二成像镜组和通道二像面。整个光路以光轴为对称轴近似呈轴对称排布可有效减小航空相机摆扫时的转动惯量，无焦望远镜采用离轴三反的设计可避免中心遮挡保证相机的空间分辨率，望远镜具有实的入瞳和出瞳可以放置二维像移补偿镜。本专利具有大视场大相对口径、光路转动惯量小、结构紧凑、加工装调技术成熟等优点，可用于无人机和飞机吊舱等平台的高分辨率面阵摆扫航空光学相机中。 |
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