| 专利名称 | 一种金属图形化方法 | 申请号 | CN201410527578.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN105502281A | 公开（授权）日 | 2016.04.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明（设计）人 | 陈沁 | 主分类号 | B81C1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B81C1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种金属图形化方法 至一种金属图形化方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开一种金属图形化方法，包括步骤：A)提供一具有预设微纳图形结构的压印版；B)在所述压印版上依次形成抗粘附层及金属膜层；C)提供一基片，并使所述基片与完成步骤B)的压印版在预定压力和预定温度下进行接触；D)将步骤A)中的压印版与所述基片分开，以使所述金属膜层转移到所述基片上，从而在所述基片上形成纳米金属结构。本发明的金属图形化方法利用具有侧壁内凹的结构体的压印版，能够有效地减小转移到基片上的纳米金属结构的边缘粗糙度，且可以实现真空环境下的金属图形化。而且，本发明的金属图形化方法精度高、工艺简单，大大降低了金属图形化特别是金属纳米结构图形化的成本，同时还能够提高加工效率。 |
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