| 专利名称 | 一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置 | 申请号 | CN201520837488.3 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN205152321U | 公开（授权）日 | 2016.04.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 发明（设计）人 | 张斌;张俊彦;高凯雄;强力 | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I | 专利有效期 | 一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置 至一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型属于物理气相沉积领域,公开了一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置，该装置包括磁控溅射靶，磁控溅射靶前设有磁靴，其中磁靴由一对磁场相反的电磁铁组成，磁靴产生的磁场平行于磁控溅射靶的靶面。本实用新型磁靴增强磁控溅射镀膜装置离化率可以由原来的10%提高到60%。 |
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