| 专利名称 | 栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置 | 申请号 | CN201520837539.2 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN205152318U | 公开（授权）日 | 2016.04.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 发明（设计）人 | 张斌;张俊彦;高凯雄;强力;王健 | 主分类号 | C23C14/32(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/32(2006.01)I | 专利有效期 | 栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置 至栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型属于物理气相沉积领域,公开了一种栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置。该装置包括由电源Ⅰ供电的柱状阴极靶、由偏压电源供电的工件架，在柱状阴极靶前放置一个由电源Ⅱ供电的栅极。本实用新型将栅极与柱弧相结合，在提高薄膜结合力、光滑度的前提下保持了更高的薄膜沉积速率。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障