| 专利名称 | 一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统 | 申请号 | CN201510962473.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN105404100A | 公开（授权）日 | 2016.03.16 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 谢耀;王丽萍;周烽;王君;王辉;郭本银;金春水 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统 至一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统，该控制方法、曝光方法和曝光系统中，通过使用硅片面上参与曝光的第二光线能量，对中间焦点处不参与曝光的第一光线能量进行标定，建立二者之间的关系曲线，进而通过对中间焦点处不参与曝光的光线能量值进行实时在线监测，间接实现了对于硅片面上曝光能量（曝光剂量）的监测，通过监测的结果进行光开关控制，实现了在线监控曝光剂量的目的，提高了曝光剂量的监控精度。 |
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