| 专利名称 | 用于准分子激光器的卤素气体补充装置 | 申请号 | CN201520477457.1 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN205081350U | 公开（授权）日 | 2016.03.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电研究院 | 发明（设计）人 | 沙鹏飞;单耀莹;彭卓君;宋兴亮;蔡茜玮;范元媛;李慧;赵江山;周翊 | 主分类号 | H01S3/036(2006.01)I | IPC主分类号 | H01S3/036(2006.01)I | 专利有效期 | 用于准分子激光器的卤素气体补充装置 至用于准分子激光器的卤素气体补充装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种用于准分子激光器的卤素气体补充装置，准分子激光器的腔体具有进入管道和出气管道，卤素气体补充装置包括冷凝器(1)、氧气提供装置(2)、压缩机(3)和储气室(4)，储气室(4)分别与出气管道、冷凝器(1)、氧气提供装置(2)通过阀门连接。氧气提供装置(2)用于向储气室(4)提供氧气；储气室(4)用于使氧气和来自腔体的工作气体充分反应生成反应气体；冷凝器(1)对反应气体进行制冷，由此除杂而输出未被冷凝的气体，压缩机(3)抽取所述冷凝器(4)中未被冷凝的气体并输送到腔体中。本实用新型可以有效的提高工作气体的寿命，同时在除杂过程中不会由于添加其它气体而使输出能量下降。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障