| 专利名称 | 离子束抛光设备 | 申请号 | CN201520408818.7 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN204771859U | 公开（授权）日 | 2015.11.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 吴丽翔;邱克强;曾思为;付绍军 | 主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 离子束抛光设备 至离子束抛光设备 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型提供了一种离子束抛光设备。该离子束抛光设备包括：工件台、离子束发生器和运动控制系统。其中，工件放置于工件台上，离子束发生器发出形状和大小实时可控的离子束束斑；运动控制系统驱动工件台和/或离子束发生器运动，离子束束斑在工件表面移动，实现对工件的抛光。本实用新型中，离子束束斑的形状和大小均可控，从而提高了离子束抛光设备的可控性和控制精度。 |
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