| 专利名称 | 一种离子束刻蚀束斑分布矫正装置 | 申请号 | CN201520523614.8 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN204792678U | 公开（授权）日 | 2015.11.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 曾思为;吴丽翔;邱克强;付绍军 | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I | IPC主分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H01J37/21(2006.01)I | 专利有效期 | 一种离子束刻蚀束斑分布矫正装置 至一种离子束刻蚀束斑分布矫正装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种离子束刻蚀束斑分布矫正装置，其包括：离子源系统与置于其下方的快门系统；所述离子源系统包括：离子源导轨及置于其上方的离子源；所述快门系统包括：导轨及其置于上方的固定挡板与可移动挡板，以及驱动电机；其中：所述驱动电机通过驱动杆与第一传动齿轮相连，所述第一传动齿轮还分别与离子源及第二传动齿轮相连，所述第二传动齿轮还与可移动挡板相连。本装置，通过保证离子源出射的离子束斑的中心随着由固定挡板与可移动挡板所约束的矩形孔的中心移动并保持二者重合，以减小由于二者中心不重合导致的离子束束斑畸变对刻蚀加工产生的误差。 |
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