| 专利名称 | 离轴抛物面镜关键参数的标定系统 | 申请号 | CN201520459648.5 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN204788260U | 公开（授权）日 | 2015.11.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 付兴;刘军鹏;张志军;安晓联 | 主分类号 | G01B11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/02(2006.01)I;G01B11/26(2006.01)I | 专利有效期 | 离轴抛物面镜关键参数的标定系统 至离轴抛物面镜关键参数的标定系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型涉及一种离轴抛物面镜关键参数的标定系统，包括第一光路、第二光路、第三光路、第四光路以及第五光路；其中第一光路包括激光干涉仪、平面反射镜、基准十字靶标和离轴抛物面镜，激光干涉仪发出的汇聚光束焦点与离轴抛物面镜焦点完全重合，激光干涉仪发出的光束经过离轴抛物面镜反射后垂直入射在平面反射镜上并沿原路返回；基准十字靶放置在激光干涉仪汇聚光束焦点和离轴抛物面镜的原光轴的交汇处放置，基准十字靶标与激光干涉仪对猫眼；解决了离轴抛物面镜关键参数测量精度低的技术问题，本实用新型的所有过程均采用光学非接触式直接测量方式，精度高且不易划伤镜面，为离轴光学系统的后期精密装调提供了准确依据。 |
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