| 专利名称 | 大束流电子束打靶微束斑X射线源的聚焦装置 | 申请号 | CN201510441709.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN105047509A | 公开（授权）日 | 2015.11.11 | 申请（专利权）人 | 中国科学院电工研究所 | 发明（设计）人 | 刘俊标;韩立;初明璋;霍荣岭;马玉田;殷伯华;谭敏;李文萍 | 主分类号 | H01J35/14(2006.01)I | IPC主分类号 | H01J35/14(2006.01)I | 专利有效期 | 大束流电子束打靶微束斑X射线源的聚焦装置 至大束流电子束打靶微束斑X射线源的聚焦装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了大束流电子束打靶微束斑X射线源的聚焦装置，包括电子束通道管、聚光镜模块、过渡段模块、物镜模块、可动光阑模块、物镜光阑座和靶；聚光镜模块上端与电子枪连接，下端固连过渡段模块；过渡段模块下端固连物镜模块，物镜模块下端套接物镜光阑座，物镜光阑座内部安装可动光阑。可动光阑模块有2个，末端中心位置分别对称开有半V型孔；当光阑片左右移动，通过控制叠加区域，形成连续不同尺寸孔径的通光孔。电子束通过电子束通道管从上到下依次穿过聚光镜模块、过渡段模块、物镜模块和可动光阑模块，到达靶平面；通过轰击靶产生X射线；优点在于，高精度的可动光阑通光孔尺寸能够实现不同束斑直径的电子束的快速切换。 |
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