激光测量核孔膜均匀度的装置

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专利名称 激光测量核孔膜均匀度的装置 申请号 CN201520158290.2 专利类型 实用新型 公开(公告)号 CN204731151U 公开(授权)日 2015.10.28 申请(专利权)人 中国科学院近代物理研究所 发明(设计)人 莫丹;袁平;刘杰;曹殿亮;刘建德;张胜霞 主分类号 G01N21/17(2006.01)I IPC主分类号 G01N21/17(2006.01)I;G01N21/59(2006.01)I 专利有效期 激光测量核孔膜均匀度的装置 至激光测量核孔膜均匀度的装置 法律状态 说明书摘要 本实用新型涉及一种激光测量核孔膜均匀度的装置,其主要特点在于包括有支架,支架包括有水平支架和竖直支架,在竖直支架的上端设有激光器,在竖直支架的中部设有二维平移台,其二维平移台的台面为透明板:在水平支架上设有光探测器;激光器与光探测器在一个中心线上。本实用新型的优点是:采用可调束斑大小激光可以精准探测所需要了解的位置点的信息,可以根据不同的扫描方式,来统计所关心的不同位置的信息。这种扫描的方式,可以通过计算机编程,自动的进行获取,从而迅速得到样品的均匀度信息。

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