| 专利名称 | 用于印刷电路板光刻领域LDI光刻设备的光刻方法 | 申请号 | CN201510437817.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104991423A | 公开（授权）日 | 2015.10.21 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 蔡燕民;司徒国海;步扬;王向朝;黄惠杰 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B13/22(2006.01)I | 专利有效期 | 用于印刷电路板光刻领域LDI光刻设备的光刻方法 至用于印刷电路板光刻领域LDI光刻设备的光刻方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种用于印刷电路板光刻领域LDI光刻设备的光刻方法，包括①计算所述的待曝光HDI基板厚度和所述的共轭距可变的光刻投影物镜的物距变化；②根据步骤①得到物距变化对共轭距可变的光刻投影物镜整体沿着光轴方向调整③对HDI基板曝光。本发明没有对物平面控制和像平面(即HDI基板表面)控制提出可动要求，也没有对调焦调平系统和对准系统提出附加的技术要求，减轻了LDI光刻设备系统设计的压力，可以有效的在共轭距变化范围内很好地校正波像差、畸变等，实现良好的成像质量。 |
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