| 专利名称 | 一种杂散光测量装置 | 申请号 | CN201520372370.8 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN204679245U | 公开（授权）日 | 2015.09.30 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 于清华;孙胜利 | 主分类号 | G01M11/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M11/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种杂散光测量装置 至一种杂散光测量装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本专利公开了一种杂散光测量装置，测量装置包括激光器、探测器，激光器有测试波段和定位波段两个波段光，两波段光共口径同方向出射，激光器测量波段和探测器响应波段位于待测光学系统的关注波段范围内，探测器覆盖激光器的测量波段。测量时，首先对光学系统入口进行分区，调整激光器出射光束相对光学系统光轴方向的夹角，并利用置于光学系统像平面的探测器，探测开启状态下的激光器出射光束到达像平面的光能量，完成该孔径位置、该离轴角条件下，杂散光的影响程度的测量，通过孔径积分获得该离轴角条件下杂散光影响程度。本专利的优点在于原理简单，通用各种尺寸口径的光学系统，且可以直观定位杂散光一次散射位置路径。 |
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