| 专利名称 | 校准DMD光刻系统中投影镜头焦面和相机焦面位置的新方法 | 申请号 | CN201510316642.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104950592A | 公开（授权）日 | 2015.09.30 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 刘华;卢振武;党博石;谭向全;郑黎明;孙强 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 校准DMD光刻系统中投影镜头焦面和相机焦面位置的新方法 至校准DMD光刻系统中投影镜头焦面和相机焦面位置的新方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 校准DMD光刻系统中投影镜头焦面和相机焦面位置的新方法属于确定DMD光刻系统中投影镜头焦平面和相机的焦平面位置的校准方法领域，该方法设计了一种辅助对焦分划板，借助该新型分划板规律断续的外轮廓线边缘，可以在校准过程中快速判断分划板的端面倾角姿态是否与光轴垂直；利用反光镀膜间隔条纹可以判断分划板沿光轴方向的距离位置是否适中。分划板上其余未被反光镀膜间隔条纹覆盖的透光条纹区域用于透过DMD的光条图案，可以方便相机或显微镜对焦；反光镀膜间隔条纹和规律断续的外轮廓线边缘相结合，还兼具向CCD调焦相机反射DMD的光条图案和辅助CCD调焦相机倾角姿态校准的作用。该方法在校准投影镜头焦面和相机焦面的同时还分别校准了其二者的倾角姿态。 |
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