| 专利名称 | 一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜 | 申请号 | CN201510382003.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104950427A | 公开（授权）日 | 2015.09.30 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 邓超;邢廷文;朱咸昌 | 主分类号 | G02B13/22(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B13/22(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜 至一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜，其像方有效视场为132×132mm，像方数值孔径可达0.17。物镜采用物方、像方双远心结构，共使用了21片透镜，所有透镜表面都为纯球面。本发明以对称、简单的结构实现所需的微米级的分辨率，保证了曝光所需足够的光强，能很好地解决国内现有大面积平板光刻设备的分辨率低、图像传递能力差的问题，同时，本发明实现了对系统研制的短周期、低成本的控制。 |
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