| 专利名称 | 一种遮挡杂散X光的装置 | 申请号 | CN201520286566.5 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN204649973U | 公开（授权）日 | 2015.09.16 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 发明（设计）人 | 闫帅;杨科;蒋升;张丽丽;王华;梁东旭;兰旭颖 | 主分类号 | G01T1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G01T1/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种遮挡杂散X光的装置 至一种遮挡杂散X光的装置 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型涉及一种遮挡杂散X光的装置，其包括：可伸缩的组合支架；光阑底座，其固定连接于所述组合支架；光阑顶座，其可拆卸地吸附于所述光阑底座；具有光阑孔的钽片光阑，其固定连接于所述光阑顶座；以及用于调节所述钽片光阑姿态以使所述光阑孔供一聚焦X光束通过的运动控制机构，其连接在所述组合支架上方；其中，所述光阑底座和光阑顶座分别开设有与所述光阑孔位置对齐的通光孔。本实用新型可以自由调整钽片光阑的自身姿态，精确定位钽片光阑与聚焦X光束的相对位置，从而高效遮挡了杂散X光，进而消除了杂散X光对聚焦光斑精度的影响。本实用新型还可以便于实验人员根据实验内容更换不同孔径的钽片光阑，提高装置对不同实验需求的适用性。 |
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