| 专利名称 | 基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统 | 申请号 | CN201510270184.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104914680A | 公开（授权）日 | 2015.09.16 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 张宗昕;冷雨欣;王成;赵全忠;王关德;程欣;李儒新 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统 至基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统，由溶胶发生装置、溶胶喷射-循环装置、LPP-EUV发生装置和泵浦激光源所构成。首先由溶胶发生装置产生溶胶，再经溶胶喷射-循环装置而在LPP-EUV发生装置内形成溶胶射流靶。由泵浦激光源输出泵浦激光，进入LPP-EUV发生装置后作用于溶胶射流靶。本发明基于溶胶射流靶增强LPP-EUV光源的可靠性与稳定性，为EUV光刻系统的高效稳定运行提供有力保障。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障