| 专利名称 | 一种光学元件表面碳污染清洗方法及装置 | 申请号 | CN201510212191.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104907287A | 公开（授权）日 | 2015.09.16 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 卢启鹏;王依;彭忠琦;龚学鹏 | 主分类号 | B08B7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B08B7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种光学元件表面碳污染清洗方法及装置 至一种光学元件表面碳污染清洗方法及装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光学元件表面碳污染清洗方法及装置，属于短波光学领域，为解决现有技术存在的光学元件表面的氧化，损伤光学元件表面，清洗速率较低的问题，该装置氢原子发射器、第一反射率计、分子泵、第二反射率计、射频等离子体电镜清洗仪接口安装在清洗腔外部与其端口密封、紧固，工作距离调整滑台通过支撑架与氢原子发射器联接，样品台设置在清洗腔内侧底部中心处，石英天平和样品设置在样品台上，入射角度调整转台从清洗腔底部与样品台联接；该清洗方法可实现对样品的粗精清洗，不仅避免清洗对样品造成损伤，而且提高清洗效率，通过对工作距离、入射角度的调节，实现对清洗过程的优化控制；本发明保证样品表面质量不受破坏，而且提高了碳污染清洗速率。 |
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