| 专利名称 | 一种用于3D微结构制造的流体光刻方法 | 申请号 | CN201510359485.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104898382A | 公开（授权）日 | 2015.09.09 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 邓钦元;周毅;司新春;程依光;刘俊伯;杨勇;胡松 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于3D微结构制造的流体光刻方法 至一种用于3D微结构制造的流体光刻方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明是一种用于3D微结构制造的流体光刻方法，属于微细加工制造领域。所述流体光刻方法是在一个微流体管道内对连续流动的光刻胶进行曝光，实现了流水线模式的光刻加工。与传统光刻方法相比，流体光刻具有高效率、高精度的加工优势，它能够在一分钟内加工数十上百个微粒、加工精度能够达到1μm。 |
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