| 专利名称 | 一种大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测方法 | 申请号 | CN201510166998.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104777718A | 公开（授权）日 | 2015.07.15 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 诸波尔;李思坤;王向朝;闫观勇;沈丽娜;王磊 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测方法 至一种大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种大数值孔径光刻机投影物镜波像差检测方法，本发明分为建模阶段和像差提取阶段，建模阶段先设定光的偏振态、投影物镜的偏振像差以及数值孔径等参数，仿真空间像，对仿真空间像进行主成分分析和多元线性回归分析，得到相应的主成分和回归矩阵,建立与大数值孔径光刻机匹配的检测模型；像差提取阶段采集实测空间像，对实测空间像进行主成分拟合得到主成分系数，采用回归矩阵对主成分系数进行最小二乘法拟合得到实测空间像的泽尼克像差。本发明实现了大数值孔径光刻机投影物镜的泽尼克像差Z5～Z37的高精度检测。 |
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