一种控温式流动薄层和频光谱电化学原位反应池

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专利名称 一种控温式流动薄层和频光谱电化学原位反应池 申请号 CN201420464160.7 专利类型 实用新型 公开(公告)号 CN204439523U 公开(授权)日 2015.07.01 申请(专利权)人 中国科学院过程工程研究所;天津市高仕睿联科技有限公司 发明(设计)人 杜浩;郑诗礼;王中行;阎文艺;王学斌;王少娜;刘海泉;秦亚灵;张懿 主分类号 G01N21/03(2006.01)I IPC主分类号 G01N21/03(2006.01)I;G01N27/401(2006.01)I 专利有效期 一种控温式流动薄层和频光谱电化学原位反应池 至一种控温式流动薄层和频光谱电化学原位反应池 法律状态 说明书摘要 用新型提供了一种控温式流动薄层和频光谱电化学原位反应池。所述反应池包括透光部件、电极密封部件、加热保温部件及密封部件等。所述电极密封部件通过螺纹与外围加热保温部件相连,通过调节螺纹实现电极密封盘与顶部光学透镜间距离的调节。所述光学池可实现反应池厚度及温度调节,可满足大部分应用需求。

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