| 专利名称 | 一种真空密封坩埚 | 申请号 | CN201520010200.5 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN204429328U | 公开（授权）日 | 2015.07.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院等离子体物理研究所 | 发明（设计）人 | 邑伟;杨思皓;崔奎;谢远来;梁立振;顾玉明;胡纯栋;黄稳;程斌;马长城 | 主分类号 | B01L3/04(2006.01)I | IPC主分类号 | B01L3/04(2006.01)I | 专利有效期 | 一种真空密封坩埚 至一种真空密封坩埚 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种真空密封坩埚，包括有坩埚体和坩埚盖，坩埚体口部和坩埚盖之间压装有密封圈；坩埚体口部和坩埚盖均设为刀口法兰结构，且二者刀口相对；坩埚体口部和坩埚盖对合后通过螺栓紧固挤压，二者刀口分别切入所述密封圈进行真空密封；包括有气体引出管，所述气体引出管从坩埚盖插入引向坩埚体口部。本实用新型把金属坩埚与刀口法兰结构相结合，实现高温加热中高真空密封，工作运行稳定可控。本实用新型结构简单，工作稳定可靠，成本较低，加工方便，安装简洁，可在真空环境中对不同物质进行高温加热。 |
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