| 专利名称 | 一种光刻机的接近式间隙曝光工件台 | 申请号 | CN201520092861.7 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN204422970U | 公开（授权）日 | 2015.06.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 龚健文;胡松;杨春利 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种光刻机的接近式间隙曝光工件台 至一种光刻机的接近式间隙曝光工件台 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种光刻机的接近式间隙曝光工件台，该工件台用于光刻机中实现样片与掩模板的接近式曝光。该工件台以掩模架和掩模板为水平基准，利用升降驱动机构带动三点弹性支撑机构、承片台、基片上升，通过自动伸出的三个等直径钢球与基准掩模板接触调平后，气动及控制机构锁紧三点弹性支撑机构，同时升降驱动机构停止上升，此时实现并保持样片与掩模板平行；接着升降驱动机构下降某个特定的距离后停止运动，三个钢球收缩返回，最后升降驱动机构再向上运动，一直到样片与掩模板间隙为某一要求值时停止上升，实现样片与掩模板接近式间隙曝光。该工件台能自动完成样片与掩模板的调平并保持一定的曝光间隙，延长了掩模板的使用寿命。 |
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