| 专利名称 | 一种微调刻蚀深度空间分布的系统 | 申请号 | CN201420724635.1 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN204407287U | 公开（授权）日 | 2015.06.17 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 吴丽翔;邱克强;付绍军 | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I | IPC主分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 专利有效期 | 一种微调刻蚀深度空间分布的系统 至一种微调刻蚀深度空间分布的系统 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型涉及一种微调刻蚀深度空间分布的系统。所述系统包括运动控制系统和扫描装置；所述运动控制系统，包括上位机运动控制单元和运动控制箱。所述扫描装置，包括叶片扫描组件和束宽修正双滑门组件，其中，叶片扫描组件是一个两轴扫描运动机构，束宽修正双滑门组件是调节离子束束流宽度的双滑动门机构。 |
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