| 专利名称 | 一种制备镍-氮掺杂金刚石的射频放电气相沉积方法 | 申请号 | CN201510097097.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104694907A | 公开（授权）日 | 2015.06.10 | 申请（专利权）人 | 中国科学院大学 | 发明（设计）人 | 陈广超;石彦超;李佳君;刘浩;左勇刚;白旸 | 主分类号 | C23C16/505(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/505(2006.01)I;C23C16/04(2006.01)I;C23C16/22(2006.01)I | 专利有效期 | 一种制备镍-氮掺杂金刚石的射频放电气相沉积方法 至一种制备镍-氮掺杂金刚石的射频放电气相沉积方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种制备镍-氮掺杂金刚石的射频放电气相沉积方法，属于金刚石气相沉积制备技术领域。利用喷射的射频放电等离子体来增强化学气相沉积，实现镍-氮掺杂金刚石制备。将射频放电激发的等离子体以喷射的方式掠射衬底，通过调整工艺参数构建出稳定的等离子体边界层，实现掺杂原子浓度的可控沉积；另一方面，利用射频放电等离子体电场温和的特点，来保证多原子组态构型的稳定性以及保持衬底上掩模材料规则花样的完整性，从而实现掺杂原子的定位沉积。本方法可以满足多原子组态掺杂的要求。优点在于，实现了镍-氮掺杂金刚石的规则分布生长，使掺杂金刚石的分布间距达到50μm的规则化分布。 |
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