| 专利名称 | 一种结合单量子点定位功能的激光直写光刻系统及其方法 | 申请号 | CN201510067561.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104678716A | 公开（授权）日 | 2015.06.03 | 申请（专利权）人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明（设计）人 | 许兴胜;高永浩;黄昕楠;黎星云 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G01J1/42(2006.01)I | 专利有效期 | 一种结合单量子点定位功能的激光直写光刻系统及其方法 至一种结合单量子点定位功能的激光直写光刻系统及其方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种结合单量子点定位功能的激光直写光刻系统，其是可以在定位样品中的单量字点位置后，直接切换至直写光刻功能，达到很好衔接的光刻系统。为了实现在定位量子点后直接进行微纳结构的制作，需要这样一套结合单量子点定位功能的激光直写光刻系统。这套系统在探测端使用单光子探测器以及单光子计数板卡组合而成的单光子探测系统，并记录坐标，能够实现激光直写的加工功能，又能完成量子点的泵浦与探测，还能将这两个功能有机的结合起来。 |
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