一种X射线聚焦光学系统

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专利名称 一种X射线聚焦光学系统 申请号 CN201420845744.9 专利类型 实用新型 公开(公告)号 CN204359942U 公开(授权)日 2015.05.27 申请(专利权)人 中国科学院西安光学精密机械研究所 发明(设计)人 刘永安;盛立志;刘舵;李林森;代锦飞;刘哲;赵宝升 主分类号 G01T1/29(2006.01)I IPC主分类号 G01T1/29(2006.01)I 专利有效期 一种X射线聚焦光学系统 至一种X射线聚焦光学系统 法律状态 授权 说明书摘要 本实用新型涉及一种X射线聚焦光学系统,包括镜筒,安装在镜筒内的反射镜片组、支撑架,反射镜片组为多个单层反射镜片嵌套形成的多层套筒结构,各单层反射镜片关于光轴旋转对称,单层反射镜片的内表面为反射面,内表面的形状为圆锥曲面,单层反射镜片之间的径向间距渐变且共焦点,能够以掠入射的方式对平行或近似平行入射的X射线通过单次反射进行聚焦。本实用新型可以有效提高X射线光子收集效率,为X射线脉冲星导航和X射线通信等非成像应用情况下微弱X射线光子的探测提供了一种简便、高效的聚焦光学系统。

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