| 专利名称 | 大口径光学元件二次曝光相位测量装置及测量方法 | 申请号 | CN201510054241.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104634542A | 公开（授权）日 | 2015.05.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 陶华;潘兴臣;王海燕;刘诚;朱健强 | 主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | 专利有效期 | 大口径光学元件二次曝光相位测量装置及测量方法 至大口径光学元件二次曝光相位测量装置及测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种大口径光学元件二次曝光相位测量装置及测量方法，激光器发出的相干光通过扩束器后由聚焦透镜聚焦，穿过焦点后经随机相位板形成散射光斑，用一个光斑探测器记录第一幅散射光斑；然后将大口径光学元件紧贴放置在聚焦透镜的前面，用光斑探测器记录第二幅散射光斑，通过记录的散射光斑并由计算机进行迭代计算获得随机相位板上的照明光场分布，由菲涅尔衍射积分公式计算可以获得聚焦透镜面上的光场分布，分别求出二次曝光记录的散射光斑恢复获得的聚焦透镜面上的光场分布，并求出他们的相位差即为待测大口径光学元件的相位分布。本发明不受限于光斑探测器尺寸，受环境影响较小，结构简单，测量分辨率高，满足于大口径光学元件相位测量的要求。 |
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