| 专利名称 | 用于电子束曝光的待曝光衬底及对准标记定位的方法 | 申请号 | CN201510039895.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104635432A | 公开（授权）日 | 2015.05.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院物理研究所 | 发明（设计）人 | 邓辉;金贻荣;朱晓波;郑东宁 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I;H01L23/544(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I | 专利有效期 | 用于电子束曝光的待曝光衬底及对准标记定位的方法 至用于电子束曝光的待曝光衬底及对准标记定位的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种用于电子束曝光的待曝光衬底及对准标记定位的方法，包括：在待曝光衬底上形成方位标记、引导标记和对准标记；引导标记邻近于待曝光衬底的边缘；记录引导标记和对准标记在待曝光衬底上的位置信息；将待曝光衬底平置于样品台上，基于方位标记调节待曝光衬底在样品台上的朝向或转动角度，使得引导标记邻近于样品台的预定位置；调节电子束曝光系统，使得预定位置出现在视场中，并继而使得引导标记出现在视场中；步骤S4：根据引导标记和对准标记的位置信息确定对准标记相对于引导标记的位置，调节电子束曝光系统使得对准标记出现在视场内。该方法在电子束曝光套刻时能够快速简便地实现了衬底的对准，使得寻标、定标直观化。 |
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