| 专利名称 | 一种等离子体射流阵列均匀处理水溶液装置及处理方法 | 申请号 | CN201510058076.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104624138A | 公开（授权）日 | 2015.05.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院电工研究所 | 发明（设计）人 | 王瑞雪;邵涛;章程;严萍 | 主分类号 | B01J19/08(2006.01)I | IPC主分类号 | B01J19/08(2006.01)I;C02F1/30(2006.01)I | 专利有效期 | 一种等离子体射流阵列均匀处理水溶液装置及处理方法 至一种等离子体射流阵列均匀处理水溶液装置及处理方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种等离子体射流阵列均匀处理水溶液的装置，等离子体射流阵列结构包括多个结构相同的等离子体射流装置；等离子体射流装置包括绝缘介质一，绝缘介质一的上部与下部均环绕有金属环一与金属环二；电源包括高压极与地极，高压极、地极分别与金属环一、金属环二连接。等离子体射流阵列结构可用于大面积的水溶液处理；喷泉式的水柱保证水溶液处理的均匀性和连续性；等离子体射流阵列结构与水处理装置的水溶液相分离，两者之间的距离可调节，等离子体放电不受水溶液的影响，放电具有稳定性；应用范围广泛，可用于工业废水、污水处理，水溶液消毒灭菌以及制备消毒水等，且不会产生二次污染；结构简单，成本低，易操作，产品易扩大，易于工业转化。 |
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