| 专利名称 | 一种复合光栅纳米光刻自动对准系统 | 申请号 | CN201510100540.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104614955A | 公开（授权）日 | 2015.05.13 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 司新春;唐燕;胡松;魏嘉;刘俊伯;邓钦元;周毅 | 主分类号 | G03F9/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种复合光栅纳米光刻自动对准系统 至一种复合光栅纳米光刻自动对准系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种复合光栅纳米光刻自动对准系统，包括光路部分、图像处理部分和电路控制部分；光路部分包括激光光源、准直成像透镜、掩模板、硅片、掩模复合光栅、硅片复合光栅、分光镜、透镜和CCD图像探测器；激光通过准直成像透镜系统形成平行光，透过两个周期类似、以一定间隙重叠且平行的硅片与掩模上的光栅发生多次衍射，来自两个光栅的同级衍射光发生干涉叠加，形成周期被放大的莫尔条纹，最后成像于CCD图像传感器上。条纹图像可以分为两部分：粗对准部分和精对准部分，对这两部分进行处理进而计算出掩模和硅片之间的相对位移，先后进行粗、精对准，通过电路控制硅片移动，使硅片与掩模完全对准。本发明可以在同一个光栅标记上进行粗、精度对准，易装调，精度高。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障