| 专利名称 | 一种基于强度关联的微波凝视高分辨成像方法 | 申请号 | CN201510052108.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104597444A | 公开（授权）日 | 2015.05.06 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 郭圆月;王东进;陆广华;刘发林;孟青泉;刘波 | 主分类号 | G01S13/89(2006.01)I | IPC主分类号 | G01S13/89(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于强度关联的微波凝视高分辨成像方法 至一种基于强度关联的微波凝视高分辨成像方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种基于强度关联的微波凝视高分辨成像方法，该方法通过联合微波辐射场与所接收散射回波的二阶强度关联，使得原本耦合在一起的目标信息分离开来，从而在凝视情况下重构高分辨目标像；与随机辐射场一阶分布相比，其观测空间不同位置二阶强度分布的时间变化率大幅减小，因此该成像方法可有效消除微波一阶关联成像中的辐射场相位敏感问题，并极大地降低关联成像对硬件系统同步误差的要求，为微波凝视关联高分辨率成像雷达的实际工程应用提供了一条可行的途径。 |
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