| 专利名称 | 微波凝视关联成像系统中时空随机辐射场的远场测量方法 | 申请号 | CN201510067466.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104569975A | 公开（授权）日 | 2015.04.29 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 王东进;田超;郭圆月;陈卫东;刘波;孟青泉 | 主分类号 | G01S13/89(2006.01)I | IPC主分类号 | G01S13/89(2006.01)I | 专利有效期 | 微波凝视关联成像系统中时空随机辐射场的远场测量方法 至微波凝视关联成像系统中时空随机辐射场的远场测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种微波凝视关联成像系统中时空随机辐射场的远场测量方法，其包括：在成像区域中选取M个测量点以及一参考点，在相同的辐照条件下对第一个测量点处的辐射场与参考点处的辐射场进行同步连续的无扰测量及记录；在不改变辐射系统构型与激励信号的情况下，更换下一个测量点，并对该测量点处的辐射场与参考点处的辐射场进行同步连续的无扰测量及记录，直到遍历所有测量点；以参考点处记录的辐射场变化为时间维匹配基准，将所有测量点处的记录的辐射场在时间维对齐；提取不同时间片段测量点处的辐射场分布，获得辐射场随时间与空间两维变化的信息。该方法能够准确测量辐射场时间维和空间维的变化，可用于辐射场标定或者关联成像。 |
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