一种阴阳离子共掺杂的硅酸铋闪烁晶体及其制备方法

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专利名称 一种阴阳离子共掺杂的硅酸铋闪烁晶体及其制备方法 申请号 CN201510044104.7 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN104562205A 公开(授权)日 2015.04.29 申请(专利权)人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明(设计)人 赵奇;袁晖;周尧;熊巍;陈良 主分类号 C30B29/34(2006.01)I IPC主分类号 C30B29/34(2006.01)I;C30B11/00(2006.01)I 专利有效期 一种阴阳离子共掺杂的硅酸铋闪烁晶体及其制备方法 至一种阴阳离子共掺杂的硅酸铋闪烁晶体及其制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及一种阴阳离子共掺杂的硅酸铋闪烁晶体及其制备方法,所述硅酸铋闪烁晶体掺杂有F-和Ba2+。F-离子和Ba2+离子的掺入,在一定程度上补偿了晶体内部局域电荷的不平衡;并且,F可打断硅氧四面体间桥氧并置换桥氧而进入BSO熔体,可减小硅氧集团层间的束缚力,从而降低BSO熔体粘度并减少宏观缺陷。

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