| 专利名称 | 一种线状纳米二氧化硅溶胶及其制备方法 | 申请号 | CN201410854330.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104556060A | 公开（授权）日 | 2015.04.29 | 申请（专利权）人 | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 梁晨亮;刘卫丽;宋志棠 | 主分类号 | C01B33/141(2006.01)I | IPC主分类号 | C01B33/141(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I | 专利有效期 | 一种线状纳米二氧化硅溶胶及其制备方法 至一种线状纳米二氧化硅溶胶及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及CMP技术抛光领域，特别是涉及一种线形二氧化硅溶胶及其制备方法。本发明提供一种线状二氧化硅溶胶，包括液体介质和溶胶颗粒，所述溶胶颗粒为线状二氧化硅颗粒。本产品的有益效果是：通过特选的酸性溶液与处理方法，形成线状二氧化硅溶胶。由于二氧化硅胶体颗粒为线状，其在芯片上的拖曳面积比单一球状的粒子要显著增大，故而能够提高抛光速率。同时，由于线状二氧化硅颗粒自身有一定的柔软度，对芯片的损伤也较煅烧二氧化硅较小。使用本发明的线状纳米二氧化硅颗粒作为CMP研磨颗粒，能有效提高抛光速率与降低表面损伤。 |
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