| 专利名称 | 一种用于X射线光栅相位衬度成像的背景扣除方法 | 申请号 | CN201510012249.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104535595A | 公开（授权）日 | 2015.04.22 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 王圣浩;吴自玉;张灿;杨萌;韩华杰;高昆;王志立 | 主分类号 | G01N23/04(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N23/04(2006.01)I;G06F19/00(2011.01)I;G06T7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于X射线光栅相位衬度成像的背景扣除方法 至一种用于X射线光栅相位衬度成像的背景扣除方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种用于X射线光栅相位衬度成像的背景扣除方法，成像系统包括X光机(1)、源光栅(2)、分束光栅(3)、样品室(4)、分析光栅(5)和X射线探测器(6)。本发明利用相位步进法采集到的图像，通过循环移动样品图像和背景图像的顺序，而使各像素的初始相位远离相位跳变区，从而可以使样品产生的相位没有跨过跳变区，进而可以避免相位纠缠现象的发生。同时基于本发明专利的背景扣除方法可以灵活调节相位测量的范围，如调节为(-π+3，π+3]，而传统方法的相位测量范围是固定在(-π，π]区间内的，本发明专利因此可以在某些应用情况下获得优势。 |
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