| 专利名称 | 一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统 | 申请号 | CN201510001996.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104536273A | 公开（授权）日 | 2015.04.22 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 司新春;唐燕;胡松;刘俊伯;周毅;邓钦元;陈昌龙;邸成良;程依光 | 主分类号 | G03F9/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F9/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统 至一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统，包括光路部分、图像处理部分和电路控制部分；光路部分包括激光光源、照明系统、掩模板、硅片、掩模二维光栅、硅片二维光栅、分光镜、透镜和CCD图像探测器；激光通过准直成像透镜系统形成平行光，透过两个周期类似、以一定间隙重叠且平行的硅片与掩模上的光栅并发生多次衍射，来自两个光栅的同级衍射光发生干涉叠加，形成周期被放大的莫尔条纹，最后成像于CCD图像传感器上。对图像处理后可以同时提取横纵两轴的两组莫尔干涉条纹的相位差，进而计算出掩模和硅片之间的相对位移，再通过电路控制硅片移动，使硅片与掩模完全对准。本发明可同时进行两个方向的精度对准，易装调，精度高。 |
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