| 专利名称 | 钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶激光材料及其制备方法 | 申请号 | CN201410789277.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104498034A | 公开（授权）日 | 2015.04.08 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 姜本学;张阳;张龙;范金太;张攀德;毛小建 | 主分类号 | C09K11/78(2006.01)I | IPC主分类号 | C09K11/78(2006.01)I | 专利有效期 | 钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶激光材料及其制备方法 至钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶激光材料及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶材料及其制备方法，钕离子掺杂氧化钪氧化镥混晶材料的分子式为：Nd：LuxSc2-xO3，其中x的取值范围为：0.1≤x≤1.9。Nd3+是典型的四能级离子，由于激光下能级与基态相距较远，所以泵浦阈值较低，且它的吸收截面和发射截面都比较大，是非常好的激光增益介质。Nd：LuxSc2-xO3激光材料优异的光学特性、热学性能使其成为发光二极管，产生超短脉冲飞秒激光的增益介质的完美选择。 |
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