| 专利名称 | 一种用于极紫外光刻的类临界照明系统 | 申请号 | CN201410797135.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN104483816A | 公开（授权）日 | 2015.04.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 王君;王丽萍;金春水;谢耀;周烽 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于极紫外光刻的类临界照明系统 至一种用于极紫外光刻的类临界照明系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 用于极紫外光刻的类临界照明系统属于极紫外光刻系统中的临界照明系统领域，该系统包括聚光系统、中继系统、光刻系统真空箱体和波纹管，聚光系统包括光源、聚光主镜、聚光系统次镜、去屑系统和聚光系统真空箱体，去屑系统沿光路布置在光源出射扇面的对称轴上；所述聚光系统次镜和聚光主镜顺次位于去屑系统后方，光源、聚光系统次镜和聚光主镜共同构成施瓦茨·契尔德系统；聚光系统次镜和聚光主镜均位于聚光系统真空箱体内；所述去屑系统前端靠近光源，其后端与聚光系统次镜的后端固连。本发明对光源收集的立体角达0.48Sr，中心面积遮拦小于25％，极大地提高了光能收集效率；使去屑系统增加有效作用距离，从而能够更好地发挥去屑作用。 |
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