| 专利名称 | 一种红外调制光致发光二维成像光路自动定位校准装置 | 申请号 | CN201420462922.X | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN204228607U | 公开（授权）日 | 2015.03.25 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 邵军;祁镇 | 主分类号 | G01N21/63(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/63(2006.01)I | 专利有效期 | 一种红外调制光致发光二维成像光路自动定位校准装置 至一种红外调制光致发光二维成像光路自动定位校准装置 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本实用新型公开一种红外调制光致发光二维成像光路自动定位校准装置。该装置包括长时间稳定工作激光光源、等距长焦距光聚焦模块、垂直光轴校准系统、焦平面校准系统以及反馈自校准控制单元。主要利用菲涅尔双棱镜在高精度互补金属氧化物半导体光电元件阵列上所成干涉图样的位置偏移度进行相关光具的位置校准，同时利用电荷耦合元件激光测试阵列完成精确度可达微米量级的光斑尺寸测定。该装置具有高稳定性、高灵敏度、高自动化等特点，是研究包括大面积红外探测器面阵材料在内的窄禁带半导体的有效技术保障。 |
1、源头对接，价格透明
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